Hotline: 0252 3822390 - 0908700379 trungtamtdc.binhthuan@gmail.com
Danh mục
Slide mặc định
Slide mặc định
Slide mặc định
Slide mặc định
Slide mặc định
Slide mặc định
Slide mặc định
Slide mặc định
Slide mặc định

CÁC CHẤT BẢO QUẢN TỰ NHIÊN MỚI TRONG MỸ PHẨM

17/02/2022 1780 lượt xem

Chất bảo quản là thành phần quan trọng trong mỹ phẩm. Mỗi sản phẩm đều cần chất bảo quản để tránh nhiễm khuẩn, biến đổi, nhằm kéo dài thời hạn sử dụng. Tùy vào đặc điểm từng công thức bào chế, sẽ có sự lựa chọn chất bảo quản khác nhau như: phổ kháng khuẩn, pH, quy định an toàn và đường dùng,…

Xu hướng phát triển chung của mỹ phẩm là ngày càng chú trọng lựa chọn chất bảo quản an toàn hơn, thay thế chất bảo quản truyền thống được cho là có khả năng mang độc tính, gây tranh cãi như: các paraben, DMDM hydantoin và dẫn xuất urea, các isothiazolinone, IPBC, triclosan. Ở đó:

  • Các paraben được cho liên quan phá vỡ hệ thống nội tiết tố và ung thư vú.
  • Nhóm chất bảo quản DMDM hydantoin và dẫn xuất urea có khả năng phóng thích formaldehyd trong quá trình sử dụng – thành phần phân loại 3 CMR, tiềm ẩn nguy cơ gây ung thư, đột biến và độc cho sức khỏe sinh sản.
  • Nhóm isothiazolinone: gồm methyl và cloromethyl isothiazolinone bị nghi ngờ gây độc thần kinh và làm tăng độ nhạy cảm cho da. Trong đó, Chloromethyl isothiazolinone mang độc tính cao nên hầu hết các nhà sản xuất đã ngừng sử dụng.
  • Triclosan: chất bảo quản được dùng rất thông dụng trong các gel rửa tay khô (hand sanitizer), đang dần được thay thế do có liên quan đến độc tính môi trường (tảo, cá heo), nguy cơ rối loạn nội tiết (tuyến giáp) và được báo cáo suy yếu cơ tim và xương khớp, đặc biệt ở trẻ em.
  • lodopropynyl butyl carbamate: chất kháng khuẩn mang gốc halogen, gây dị ứng khi tiếp xúc. Iod tự do được cho có khả năng tác động vào tuyến giáp và gây bướu cổ. Thành phần này bị cấm sử dụng ở Nhật Bản và EU, một số nơi khác được sử dụng với nồng độ tối đa cho phép 0,02%. Tương tự vậy, EU cho phép sử dụng tối đa 0,1% methyl dibromo glutaronitrile trong các sản phẩm rửa trôi.
  • Các hợp chất amoni bậc IV như: cetyl pyridinium chloride, benzethonium chloride, benzalkonium chloride, mang hoạt tính kháng khuẩn tốt, nhưng ứng dụng hạn chế trong mỹ phẩm do ít tương thích với các thành phần khác, đặc biệt là các anion mạnh.

Hệ chất bảo quản tự nhiên mới

Hệ bảo quản mới dựa trên sự hiệp lực của các acid tự nhiên, với phổ kháng khuẩn rộng, và thuận tiện sử dụng trong các công thức mỹ phẩm. Hệ gồm: N-capryloyl glycine, undecylenoyl glycine, benzoic acid và sodium dehydroacetate.

  • N-capryloyl glycine: còn được biết đến với tên gọi N-octanoyl glycine, chất kháng khuẩn tự nhiên tồn tại màng nhầy trên da. Thành phần này được đề nghị sử dụng từ năm 1996 như chất kháng khuẩn trong mỹ phẩm. Bên cạnh đó, còn có khả năng bảo vệ làn da thông qua phục hồi lượng acid mantle (da) và ức chế loại nấm Pityrosporum ovale.
  • N-undecylenoyl glycine: thành phần được sử dụng hơn 40 năm qua trong điều trị các rối loạn về da, đặc biệt trong hoạt động trị mụn và giảm gàu. Trong nghiên cứu năm 2004, khi sử dụng kết hợp với chiết xuất wasabi, undecylenoyl cho thấy hiệu quả trong bảo vệ mỹ phẩm như dạng chất bảo quản kết hợp.
  • Benzoic acid: nồng độ tối đa cho phép trong sản phẩm rửa trôi là 2,5% và 0,5% trong mỹ phẩm lưu lại trên da, với khả năng khuẩn và đặc biệt là nấm. Được sử dụng rộng rãi như chất bảo quản thực phẩm.
  • Sodium dehydroacetate: nồng độ tối đa cho phép theo Cosmetic Directive Annex VI là 0,6%. Thành phần này có khả năng kháng nấm tốt và kháng khuẩn vừa phải.

Các chất bảo quản tự nhiên mới trong mỹ phẩm

Giá trị MIC ở một số loại khuẩn, nấm

 

 
  Các chất bảo quản tự nhiên mới trong mỹ phẩm


Giá trị MIC của hợp chất kháng lại các khuẩn điển hình từ 0,3-0,5%. Hệ cho thấy sự hiệu quả với khả năng kháng khuẩn phổ rộng, dễ dàng kết hợp trong công thức mỹ phẩm với dãy pH từ 3-6 nhưng lại ít mang độc tính như paraben, formaldehyd, isothiazolinone, các halogen,…

Thử nghiệm khả năng kháng khuẩn với nồng độ hỗn hợp 1% ở pH 6

Thùy Linh st (Nguồn: Hoahocngaynay.com)

Bài viết cùng chuyên mục
Top